CsI Thin Film Deposition Maszyna do powlekania próżniowego / Sprzęt do powlekania cienkowarstwowego z jodkiem cezu
Wydajność cienkowarstwowych powłok z odparowywania termicznego z jodku cezu
Ultrawysoka rozdzielczość przestrzenna obrazów;
Szybka reakcja dla ostrzejszych obrazów;
Wiodące w swojej klasie obszary obrazu od krawędzi do krawędzi;
Warstwy absorbera optycznego lub warstwy odbłyśnika;
Niska dawka promieniowania rentgenowskiego dla pacjenta;
Nadaje się do urządzeń CMOS i CCD, szczególnie w przemyśle medycznym.
Maszyna do powlekania próżniowego cienkowarstwową powłoką CsIdla urządzeń CMOS CCD to zaawansowana technika odparowywania CsI na ekranie w celu uzyskania wysokiej jakości.
Efektywność:
Model CsI-950A+ ma 2-obrotową konstrukcję stojaka opartą na modelu CsI-950 Generation-one.
Podwójna pojemność dla max.wielkość podłoża: 500x400mm.
Niezawodność:
24/7 dni nieprzerwane działanie;
Kontroler grubości folii Inficon do monitorowania grubości folii w linii.
Dokładność kontroli temperatury: ± 1 ℃, ustawienie wielostopniowe, automatyczne rejestrowanie i kontrola danych temperatury;
Regały obrotowe wyposażone w serwomotor zapewniający wysoką dokładność i stabilność.
Powtarzalność i odtwarzalność:
Poprzez wysoce precyzyjny system kontroli parametrów,
Oprogramowanie i program do zautomatyzowanej kontroli procesu,
Przyjazna dla użytkownika obsługa.
Bezpieczeństwo:
Pompa wysokiej próżni: pompa molekularna z zawieszeniem magnetycznym, z urządzeniem do wydmuchiwania gazu azotowego, aby uniknąć wystawienia niebezpiecznego materiału w powietrzu;
Wszystkie elektrody są wyposażone w osłonę ochronną
CsI High Vacuum Deposition System jest przeznaczony wyłącznie do metalizacji CsI na ekranach scyntylacyjnych w środowisku ekstremalnie wysokiej próżni.Scyntylatory CsI 200～600µm w zakresach grubości o wysokiej jednorodności grubości i jasności.
Charakterystyka osadzania jodku cezu (CsI ):
Ultra-wysoka rozdzielczość przestrzenna obrazowania;
Szybka reakcja zapewniająca ostrzejsze obrazowanie;
Wiodące w swojej klasie obszary obrazu od krawędzi do krawędzi;
Optyczne warstwy pochłaniające lub warstwy odbłyśnikowe;
Niska dawka promieniowania rentgenowskiego dla pacjenta;
Zastosowanie: do kontroli i inspekcji bezpieczeństwa, edukacji fizyki wysokich energii, wykrywania promieniowania jądrowego i obrazowania medycznego: badanie klatki piersiowej, mammografia, dentystyka międzyustna i panoramiczna.
Zastosowane podłoża: szkło TFT, płyta światłowodowa, płyta z amorficznego węgla, płyta aluminiowa
| Opis | CsI-950 |
CS-950A+
|
|
Komora osadzania (mm)
|
φ950 x H1350 |
φ950 x H1350
|
| Ładowanie regałów obrotowych | 1 | 2 |
| Źródła parowania | 2 |
2
|
| Metoda ogrzewania |
Lampa jodowo-wolframowa Maks.800 ℃ |
Lampa jodowo-wolframowa Maks.800 ℃ |
| Maksymalne podciśnienie (Pa) | 8,0×10-5Rocznie | 8,0×10-5Rocznie |
| Pompa molekularna z zawieszeniem magnetycznym | 1x3400L/S |
1x3400L/S
|
| Pompa korzeniowa | 1x490m³/h |
1x490m³/h
|
| Obrotowa pompa łopatkowa | 1 x 300m³/h |
1 x 300m³/h
|
| Kontroler osadzania | Kontrola kwarcu x 1 |
Kontrola kwarcu x 1
|
| Pobór mocy (kW) |
Maks.około.62 Średnia ok.32 |
Maks.około.65 Średnia ok.35 |
Skontaktuj się z nami, aby uzyskać więcej specyfikacji, Royal Technology ma zaszczyt zapewnić kompleksowe rozwiązania w zakresie powłok.
