Ceramiczne podłoże promieniujące Cooper Magnetronowa powlekarka do napylania / wióry ceramiczne Bezpośrednie powlekanie urządzeń do napylania miedzi
Cooper Magnetronowa powłoka natryskowa na ceramicznym podłożu promieniującym
Proces DPC - Direct Plating Copper to zaawansowana technologia powlekania stosowana w przemyśle LED / półprzewodnikowym / elektronicznym.Jednym z typowych zastosowań jest ceramiczne podłoże promieniujące.
Osadzanie miedzianych warstw przewodzących na podłożach Al2O3, AlN, Si, Szklane metodą napylania próżniowego PVD, w porównaniu z tradycyjnymi metodami wytwarzania: DBC LTCC HTCC, cechy:
1. Znacznie niższy koszt produkcji.
2. Znakomite zarządzanie termiczne i wydajność wymiany ciepła
3. Dokładne wyrównanie i zaprojektowanie wzoru,
4. Wysoka gęstość obwodu
5. Dobra przyczepność i lutowność
Królewski zespół technologiczny pomógł naszemu klientowi w pomyślnym opracowaniu procesu DPC z technologią napylania PVD.
Ze względu na swoją zaawansowaną wydajność podłoża DPC znajdują szerokie zastosowanie w różnych aplikacjach:
Dioda LED o wysokiej jasności, aby zwiększyć długą żywotność ze względu na jej wysokąpromieniowanie cieplnewydajność, sprzęt półprzewodnikowy, mikrofalowa komunikacja bezprzewodowa, elektronika wojskowa, różne podłoża czujników, lotnictwo, transport kolejowy, energia elektryczna itp.
Sprzęt RTAC1215-SP jest przeznaczony wyłącznie do procesu DPC, który uzyskuje warstwę miedzi na podłożach.Urządzenie to wykorzystuje zasadę fizycznego naparowywania próżniowego PVD, z wielołukowym powlekaniem jonowym i technikami rozpylania magnetronowego, aby uzyskać idealną folię o wysokiej gęstości, wysokiej odporności na ścieranie, wysokiej twardości i silnym wiązaniu w środowisku wysokiej próżni.Jest to kluczowy krok w procesie spoczynkowego DPC.
Maszyna do napylania miedzią Kluczowe cechy
1. Wyposażony w 8 katod łukowych skrętnych i katody rozpylające DC, katody rozpylające MF, jednostkę źródła jonów.
2. Dostępna powłoka wielowarstwowa i współosadzana
3. Źródło jonów do wstępnej obróbki plazmowej i osadzania wspomaganego wiązką jonów w celu zwiększenia przyczepności folii.
4. Urządzenie do podgrzewania podłoży ceramicznych/Al2O3/AlN;
5. System rotacji i obrotu podłoża, do powlekania jednostronnego i dwustronnego.
Specyfikacje maszyny do napylania miedzią
Wydajność
1. Najwyższe ciśnienie próżniowe: lepsze niż 5,0 × 10-6Torr.
2. Ciśnienie robocze podciśnienia: 1,0 × 10-4Torr.
3. Czas odpompowania: od 1 atm do 1,0×10-4Torr≤ 3 minuty (temperatura pokojowa, sucha, czysta i pusta komora)
4. Materiał metalizujący (rozpylanie + odparowanie łukowe): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr itp.
5. Model operacyjny: w pełni automatycznie/półautomatycznie/ręcznie
Struktura
Maszyna do powlekania próżniowego zawiera kluczowy kompletny system wymieniony poniżej:
1. Komora próżniowa
2. System pompowania próżniowego zgrubnego (pakiet pompy pomocniczej)
3. System pompowania wysokiego podciśnienia (pompa molekularna z zawieszeniem magnetycznym)
4. Elektryczny system sterowania i obsługi
5. System obiektów pomocniczych (podsystem)
6. System osadzania
Próbki
Skontaktuj się z nami, aby uzyskać więcej specyfikacji, Royal Technology ma zaszczyt zapewnić kompleksowe rozwiązania w zakresie powłok.
