System osadzania niezrównoważonego rozpylania magnetronowego w zamkniętym polu, niezrównoważone rozpylanie jonowe magnetronowe
Niezrównoważone i zamknięte procesy magnetronowe mają wszystkie zalety magnetronów planarnych.Dodatkowe zalety i wady to:
Niezrównoważone i zamknięte napylanie magnetronowe zrewolucjonizowało właściwości osiągane przez procesy napylania magnetronowego.Ponieważ technologia ta odniosła sukces w zakresie ulepszonej trybologii cienkowarstwowej, odporności na korozję i właściwości optycznych, udoskonalenia w technologii magnetronowej właśnie się rozpoczęły.Następny Blog przechodzimy do obrotowych i cylindrycznych procesów magnetronowych i wynikających z nich zastosowań cienkich warstw.
--- Powyżej Artical odPETE R MARTIN
Technologia królewska opracowała katody do napylania o wysokiej wydajności i wysokim stopniu wykorzystania docelowego, zwłaszcza do napylania rzadkich i drogich metali: osadzanie warstw metalu ze srebra Au Gold, Ta Tantal, Ag.System osadzania folii o wysokiej jednorodności służy kilku branżom, takim jak części elektroniczne, komponenty instrumentów medycznych, które wymagają wysokiej jednorodności folii, osadzanie wielu warstw.
Maszyna RTSP1000 to ustandaryzowane urządzenie opracowane przez technologię Royal.Szeroko stosowany w narzędziach tnących/formujących, formach, instrumentach medycznych, komponentach elektronicznych, przemyśle motoryzacyjnym.
| Główne konfiguracje i parametry techniczne RTSP1000 | ||||||||
| MODEL | RTSP1000 | |||||||
| TECHNOLOGIA | Napylanie magnetronowe MF + czyszczenie plazmowe źródła jonów | |||||||
| MATERIAŁ KOMORY | Stal nierdzewna (S304) | |||||||
| ROZMIAR KOMORY | Φ1000*800mm (wys.) | |||||||
| TYP KOMORY | kształt D | |||||||
| RACK OBROTOWY I SYSTEM JIG | 6 satelitów Max.waga: 500 kg | |||||||
| ZASILACZE |
Ilośćnapylania: 2*24 KW Odchylenie zasilania: 1*20W Źródło jonów Zasilanie 1*5KW |
|||||||
| MATERIAŁ DEPOZYCYJNY | Ti/Cr/TiAl/Ta/Cu/Au/Carbon itp. | |||||||
| ŹRÓDŁO DEPOZYCJI | 2 pary (4 sztuki) Planarne katody rozpylające + 1 liniowe źródło jonów Obszar jednorodności: ± 10 ~ 15% |
|||||||
| KONTROLA | PLC (programowalny sterownik logiczny) + ekran dotykowy (modele ręczne + automatyczne + półautomatyczne) | |||||||
| SYSTEM POMPOWY | Rotacyjna pompa łopatkowa: SV300B - 1 zestaw (Leybold) | |||||||
| Pompa Roots: zestaw WAU1001-1 (Leybold) | ||||||||
| Pompa utrzymująca: D60C-1 zestaw (Leybold) | ||||||||
| Pompa molekularna z zawieszeniem magnetycznym - 1 zestaw (Leybold) | ||||||||
| REGULATOR PRZEPŁYWU MASY GAZU | 4 kanały, Made in China, model cyfrowy Seven Star (seria CS, ) | |||||||
| PRÓŻNIOWNIK | Model: ZDF-X-LE, Wyprodukowano w Chinach: ZDF-X-LE | |||||||
| LINIOWE ŹRÓDŁO JONÓW | 1 sztuka Obróbka wstępna, czyszczenie plazmowe + osadzanie wspomagane | |||||||
| SYSTEM BEZPIECZEŃSTWA | Liczne blokady bezpieczeństwa chroniące operatorów i sprzęt | |||||||
| OGRZEWANIE | Grzejniki: 30KW.Maks.temp.: 450 ℃ | |||||||
| CHŁODZENIE | Chiller przemysłowy (zimna woda) | |||||||
| MOC MAKS. | 100KW (w przybliżeniu) | |||||||
| ŚREDNIE ZUŻYCIE ENERGII | 45 KW (w przybliżeniu) | |||||||
| WAGA BRUTTO | T (w przybliżeniu) | |||||||
| ŚLAD STOPY | (L*W*H) 4000*4000*3200 MM | |||||||
| ZASILANIE ELEKTRYCZNE | AC 380V/3 fazy/50HZ/5 linii | |||||||
Wysokie wykorzystanie docelowej depozycji napylania planarnego: proszę KLIKNIJ TUTAJ oglądać wideo
Czyszczenie plazmowe z liniowym źródłem jonów i wspomaganie osadzania: proszę KLIKNIJ TUTAJ oglądać wideo
Skontaktuj się z nami, aby uzyskać więcej specyfikacji, Royal Technology ma zaszczyt zapewnić kompleksowe rozwiązania w zakresie powłok.
