Obudowa zegarka System rozpylania MF / Grafitowa instalacja do powlekania próżniowego PVD



Futerał do zegarków MF Sputtering System to zintegrowana maszyna z wieloma źródłami osadzania ogólnego grafitu, kruczoczarnej, niebieskiego koloru itp. Na metalowych elementach, przedmiotach ze stali nierdzewnej. Szczególnie stosowany do luksusowych produktów wysokiej klasy, takich jak: elektronika: smartfon, aparat fotograficzny, laptop, golf, łyżka, widelce, nóż, klamka, krany; biżuteria z pierścionków, naszyjników, kolczyków, bransoletek itp.

Obudowa zegarka MF Sputtering System ma wiele źródeł osadzania:
Sterowane źródła łuku kołowego do odparowywania tarczy z litego metalu;
2 pary nieblanowanych katod rozpylających MF do osadzania grafitowej cienkiej warstwy;
Odchylenie zasilacza do bombardowania jonowego w celu utworzenia obszaru plazmy do wstępnego leczenia;
Anodowe źródło liniowego jonu (dla opcjonalnego) Przetwarzanie PACVD i PECVD;
Cryopump (Polycold) do kondensacji molekularnej wody (opcjonalnie)

Co to jest MF Sputtering?

W porównaniu z napylaniem DC i RF napylanie średniej częstotliwości stało się główną techniką napylania cienkowarstwowego do masowej produkcji powłok, w szczególności do nakładania błon powłok dielektrycznych i nieprzewodzących na powierzchniach takich jak powłoki optyczne, panele słoneczne, wielowarstwowe , folia z materiału kompozytowego itp.
Zastępuje rozpylanie fal radiowych, ponieważ działa z częstotliwością kHz zamiast MHz, co zapewnia znacznie większą szybkość osadzania, a także może uniknąć zatrucia docelowego podczas osadzania złożonego cienkiego filmu, takiego jak DC.

Cele rozpylania MF zawsze istniały z dwoma zestawami. Stosowane są dwie katody z prądem przemiennym przełączanym w obie strony, który czyści powierzchnię docelową przy każdym odwróceniu, aby zmniejszyć nagromadzenie ładunku na dielektrykach, co prowadzi do wyładowań łukowych, które mogą wyrzucać kropelki do plazmy i zapobiegać jednorodnemu wzrostowi cienkich warstw --- co nazywamy zatruciem docelowym.

Wydajność systemu rozpylania MF
1. Ostateczne ciśnienie próżni: lepsze niż 5,0 × 10 ^{- 6} Torr.
2. Ciśnienie robocze próżni: 1,0 × 10–4 tor.
3. Czas wypompowywania: od 1 atm do 1,0 × 10–4 Torr ≤ 3 minuty (temperatura pokojowa, sucha, czysta i pusta komora)
4. Materiał metalizujący (rozpylanie + odparowanie łuku): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC itp.
5. Model operacyjny: pełny automatycznie / półautomatycznie / ręcznie

Struktura systemu rozpylania MF
Maszyna do powlekania próżniowego zawiera kluczowy kompletny system wymieniony poniżej:
1. Komora próżniowa
2. Układ pompowania próżniowego Rouhging (pakiet pompy uzupełniającej)
3. System pompowania w wysokiej próżni (pompa molekularna z zawieszeniem magnetycznym)
4. Elektryczny system sterowania i obsługi
5. System urządzeń pomocniczych (podsystem)
6. System osadzania: katoda rozpylająca MF, zasilacz MF, zasilacz Bias Źródło jonów dla opcjonalnego

Rozmiary systemu rozpylania metalowego grafitu MF:
Rozmiar komory wewnętrznej: Dia 1200 mm ~ 1600 mm
Wysokość wewnętrzna komory: 1250 mm ~ 1300 mm

Dostępne są również niestandardowe rozmiary maszyn oparte na specyficznym zapotrzebowaniu na produkty 3D.

MF System rozpylania RTAC1250-SPMF Dane techniczne

Skontaktuj się z nami, aby uzyskać więcej specyfikacji, Royal Technology ma zaszczyt zaoferować kompleksowe rozwiązania w zakresie powłok.