|
| Nazwa marki: | ROYAL |
| Numer modelu: | RTAC1215-SP |
| MOQ: | 1 zestaw |
| Cena £: | negocjowalne |
| Warunki płatności: | L / C, T / T |
| Zdolność do zaopatrzenia: | 6 zestawów miesięcznie |
Ceramiczny promiennikowy system napylania miedzianego / wióry ceramiczne bezpośrednio platerowane miedzianym sprzętem do napylania
Cooper Magnetron Sputtering Coating Plant on Ceramic Rading Substrate
Proces DPC - bezpośrednie powlekanie miedzi to zaawansowana technologia powlekania stosowana w przemyśle diodowym / półprzewodnikowym / elektronicznym.Jednym z typowych zastosowań jest ceramiczne podłoże promieniujące.
Osadzanie miedzianej folii przewodzącej na podłożach Al2O3, AlN, Si, szklanych techniką napylania próżniowego PVD w porównaniu z tradycyjnymi metodami wytwarzania: DBC LTCC HTCC, cechy:
1. Znacznie niższy koszt produkcji.
2. Znakomite zarządzanie termiczne i wydajność wymiany ciepła
3. Dokładne wyrównanie i projekt wzoru,
4. Wysoka gęstość obwodu
5. Dobra przyczepność i lutowalność
Królewski zespół technologiczny pomógł naszemu klientowi z powodzeniem opracować proces DPC z technologią rozpylania PVD.
Ze względu na swoją zaawansowaną wydajność podłoża DPC są szeroko stosowane w różnych zastosowaniach:
Dioda LED o wysokiej jasności, aby wydłużyć żywotność ze względu na jej wysoką promieniowanie cieplne wydajność, sprzęt półprzewodnikowy, bezprzewodowa komunikacja mikrofalowa, elektronika wojskowa, różne podłoża czujników, lotnictwo, transport kolejowy, energia elektryczna itp.
Sprzęt RTAC1215-SP jest przeznaczony wyłącznie do procesu DPC, który polega na uzyskaniu warstwy miedzi na podłożach.To urządzenie wykorzystuje zasadę fizycznego osadzania z fazy gazowej PVD, z wielolukowym platerowaniem jonowym i technikami rozpylania magnetronowego w celu uzyskania idealnej folii o dużej gęstości, wysokiej odporności na ścieranie, dużej twardości i silnym wiązaniu w środowisku o wysokiej próżni.Jest to kluczowy krok w procesie odpoczynku DPC.
Najważniejsze cechy maszyny do napylania miedzianego
1. Wyposażony w 8 katod łuku sterującego i katody rozpylające prąd stały, katody rozpylające MF, źródło jonów.
2. Dostępna powłoka wielowarstwowa i współosadzana
3. Źródło jonów do wstępnego czyszczenia plazmowego i osadzania wspomaganego wiązką jonów w celu zwiększenia przyczepności powłoki.
4. Podgrzewacz podłoży ceramicznych / Al2O3 / AlN;
5. System obracania i obracania podłoża, do malowania jednostronnego i dwustronnego.
Specyfikacje maszyny do napylania miedzianego
Wydajność
1. Ostateczne podciśnienie: lepsze niż 5,0 × 10-6 Torr.
2. Ciśnienie robocze: 1,0 × 10-4 Torr.
3. Czas odpompowywania: od 1 atm do 1,0 × 10-4 Torr≤ 3 minuty (temperatura pokojowa, sucha, czysta i pusta komora)
4. Materiał metalizujący (napylanie + odparowanie łuku): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr itp.
5. Model operacyjny: w pełni automatycznie / półautomatycznie / ręcznie
Struktura
Maszyna do powlekania próżniowego zawiera kluczowy kompletny system wymieniony poniżej:
1. Komora próżniowa
2. Szorstki system pompowania próżniowego (zestaw pompy podkładowej)
3. Wysokopróżniowy system pompowania (pompa molekularna z zawieszeniem magnetycznym)
4. Elektryczny system sterowania i obsługi
5. System wyposażenia pomocniczego (system podrzędny)
6. System osadzania
Podłoża Al2O3, AlN z próbkami do galwanizacji miedzi
Skontaktuj się z nami, aby uzyskać więcej specyfikacji, Royal Technology ma zaszczyt zapewnić kompleksowe rozwiązania w zakresie powłok.
