TiN złota Metalowa maszyna do powlekania magnetronowego o średniej częstotliwości / System rozpylania MF



Powlekanie próżniowe metodą rozpylania magnetronowego jest rodzajem metody obróbki powierzchniowej PVD. Może być stosowany do produkcji folii przewodzących lub nieprzewodzących, na różnego rodzaju materiałach: metalach, szkle, ceramice, plastiku, stopie metalu. Koncepcja osadzania przez rozpylanie: materiał powłokowy (tarcza, zwana także katodą) i elementy obrabiane (podłoża, zwane także anodą) są umieszczane w komorze próżniowej, a ciśnienie jest zmniejszane. Rozpylanie jest inicjowane przez umieszczenie celu pod różnicą napięcia i wprowadzenie gazu argonowego, który tworzy jony argonu (wyładowanie jarzeniowe). Jony argonu przyspieszają w kierunku celu procesu i wypierają atomy docelowe. Te rozpylane atomy są następnie kondensowane na podłożu i tworzą bardzo cienką warstwę o wysokiej jednorodności. Różne kolory można uzyskać, wprowadzając gazy reaktywne, takie jak azot, tlen lub acetylen, do gazu rozpylającego podczas procesu powlekania.

Modele rozpylania magnetronowego: rozpylanie DC, rozpylanie MF, rozpylanie RF

Co to jest MF Sputtering?

W porównaniu z napylaniem DC i RF napylanie średniej częstotliwości stało się główną techniką napylania cienkowarstwowego do masowej produkcji powłok, w szczególności do nakładania błon powłok dielektrycznych i nieprzewodzących na powierzchniach takich jak powłoki optyczne, panele słoneczne, wielowarstwowe , folia z materiału kompozytowego itp.
Zastępuje rozpylanie fal radiowych, ponieważ działa z częstotliwością kHz zamiast MHz, co zapewnia znacznie większą szybkość osadzania, a także może uniknąć zatrucia docelowego podczas osadzania złożonego cienkiego filmu, takiego jak DC.

Cele rozpylania MF zawsze istniały z dwoma zestawami. Stosowane są dwie katody z prądem przemiennym przełączanym w obie strony, który czyści powierzchnię docelową przy każdym odwróceniu, aby zmniejszyć nagromadzenie ładunku na dielektrykach, co prowadzi do wyładowań łukowych, które mogą wyrzucać kropelki do plazmy i zapobiegać jednorodnemu wzrostowi cienkich warstw --- co nazywamy zatruciem docelowym.

Wydajność systemu rozpylania MF
1. Ostateczne ciśnienie próżni: lepsze niż 5,0 × 10 ^{- 6} Torr.
2. Ciśnienie robocze próżni: 1,0 × 10–4 tor.
3. Czas wypompowywania: od 1 atm do 1,0 × 10–4 Torr ≤ 3 minuty (temperatura pokojowa, sucha, czysta i pusta komora)
4. Materiał metalizujący (rozpylanie + odparowanie łuku): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC itp.
5. Model operacyjny: pełny automatycznie / półautomatycznie / ręcznie

Struktura systemu rozpylania MF
Maszyna do powlekania próżniowego zawiera kluczowy kompletny system wymieniony poniżej:
1. Komora próżniowa
2. Układ pompowania próżniowego Rouhging (pakiet pompy uzupełniającej)
3. System pompowania w wysokiej próżni (pompa molekularna z zawieszeniem magnetycznym)
4. Elektryczny system sterowania i obsługi
5. System urządzeń pomocniczych (podsystem)
6. System osadzania: katoda rozpylająca MF, zasilacz MF, zasilacz Bias Źródło jonów dla opcjonalnego

System rozpylania MF RTSP1212-MF Dane techniczne

Do wyboru mamy więcej modeli!




Skontaktuj się z nami, aby uzyskać więcej specyfikacji, Royal Technology ma zaszczyt zaoferować kompleksowe rozwiązania w zakresie powłok.